Innovation dans la technologie ALD
Atomic Layer Deposition (ALD) correspond à la mise en place séquentielle d’ondes de précurseurs de métaux et d’oxygène qui se propagent et qui permettent un niveau de contrôle d’épaisseur de l’ordre de l’angström. L’innovation d’Encapsulix a réduit le temps de cycle et rendu possible de grandes tailles de supports pour ce processus ALD.
L’innovation d’Encapsulix : Un assemblage de doseurs de précurseurs et d’injecteurs de gaz modulaires qui se comportent comme une «unité» monolithique.
- Assemblage de systèmes spécifiques sur la base de briques technologiques communes.
- Augmentation d’un facteur de 5-100 du débit grâce au déploiement massif parallèle.
- Commonalité dans le matériel, les procédés de R&D et la fabrication.
Dépôt économique de couches minces à l’échelle atomique de la barrière.