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(English) Encapsulix introduces Infinitytm 500 Atomic Layer Deposition System and announces the sale to a leading OLED Lighting Manufacturer for Encapsulation.

Encapsulix a annoncé aujourd’hui la vente d’une machine industrielle Infinitytm 500 à un fabricant leader du marché de l’éclairage OLED en vue de l’encapsulation par Atomic Layer Deposition.
La machine d’équipement Infinitytm 500 a été développée en utilisant la technologie de dépôt de couche atomique brevetée et exclusive de l’entreprise Encapsulix. La famille de produits de la machine Infinity tm 500 pour dépôts barrière et films d’encapsulation sur des substrats jusqu’à 500mm x 400mm est le cheval de travail pour les applications Gen2 OLED. La livraison de la machine commandée par un important fabricant d’éclairage OLED est prévue fin 2013. Le système fournit les meilleures performances en terme d’ultrabarrière et de coûts pour la fabrication de dispositifs OLED. Les équipements Infinitytm 1000 pour Gen5 et 5.5 seront mis en place en 2014 avec l’Infinitytm Flex500 et 1000 pour des substrats et des rouleaux organiques flexibles.

Encapsulix présente l’équipement Parallel Precursor Wave (PPW) ALD

Encapsulix est un fournisseur d’une technologie de dépôt de couches minces d’ultrabarrières pour la prochain niveau de durabilité dans l’électronique grande surface. Le lancement réussi de nouveaux dispositifs d’économie d’énergie tels que l’éclairage OLED, CIGS sur substrat flexible ou photovoltaïque organique repose sur la disponibilité d’ une technologie industrielle pour la création d’ultrabarrières abordables, la protection des composants vis à vis de l’absorption de l’humidité pendant le fonctionnement, assurant ainsi sa pérennité et sa fiabilité. Les matériaux traditionnels sont loin de fournir les performances requises et souffrent de la dégradation induite par les UV. Des expériences de laboratoire récentes ont démontré que les couches atomiques d’alumine (Al2O3) apportent une amélioration spectaculaire pour protéger les appareils électroniques de la vapeur d’ eau. De plus, des propriétés secondaires de Al2O3 , comme sa dureté rendent cette approche intéressante. Le défi est au niveau des coûts : les systèmes traditionnels ALD ont un faible débit, et donc les ultrabarrières ont été rejetées comme étant trop coûteuses pour le déploiement industriel à grande échelle. Encapsulix présente aujourd’hui le système d’équipement ALD Parallel Wave Précurseur (PPW). Ce système exclusif et modulaire permet de construire des réacteurs ALD ayant des débits qui sont des ordres de grandeur plus élevés que ceux des systèmes conventionnels ALD. La réduction des coûts qui en découle rend la technologie d’encapsulation de prochaine génération économiquement viable, fournissant un chemin immédiat vers des gains importants dans la longévité de l’appareil et sa fiabilité. Contactez-nous à l’adresse contact@encapsulix.com pour plus d’informations .